特許
J-GLOBAL ID：200903035584468169
電子線描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-190000
公開番号（公開出願番号）：特開平6-013301
出願日： 1992年06月24日
公開日（公表日）： 1994年01月21日
要約：
【要約】【目的】 セルプロジェクション方式で描画を行う場合にも近接効果を良好に補正する。【構成】 ステンシルマスク上で、幅Lcの縮小転写用のパターン20-2とこれに隣接するパターン20-1,20-3との間にLc/2以上の幅Ldの遮蔽領域22を形成する。前段からの電子線による像23Gを遮蔽領域22に横ずれさせてそのパターン20-2の一部のみを照射して、この一部のパターンの像をドーズを変えながらターゲット上に描画する。
請求項（抜粋）：
電子銃と、該電子銃から放出された電子線が照射される第1の矩形の開口パターンが形成された第1の電子線透過マスクと、第2の矩形の開口パターン及び縮小転写用のパターンを含む複数の転写パターンが配列されると共に、該複数の転写パターンの間にそれぞれ該転写パターンの幅の1/2以上の幅の遮蔽領域が形成された第2の電子線透過マスクと、前記第1の矩形の開口パターンを透過した電子線を偏向させて前記第2の電子線透過マスクの前記複数の転写パターンの1つの転写パターンの全部又は一部に照射する偏向手段と、該電子線が照射された転写パターンの全部又は一部の縮小像をターゲット上に結像する結像手段と、前記ターゲットへの電子線の照射量を調整する照射量制御手段と、を有し、可変成形ビームによる描画と一括縮小転写による描画とを切り換えて描画する事を特徴とする電子線描画装置。
引用特許：
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