特許

J-GLOBAL ID：200903035585600419

X線露光装置

発明者： 北村 芳隆 ,  杉島 賢次
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-337406
公開番号（公開出願番号）：特開平5-175103
出願日： 1991年12月20日
公開日（公表日）： 1993年07月13日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 シンクロトロン放射X線を用いた露光装置に関し,ステップアンドリピート方式による露光において隣接する被露光領域間に生じる多重露光を回避可能とすることを目的とする。【構成】 シンクロトロン放射X線が照射される領域を半導体ウエハ表面における例えばチップ領域のみに制限するための遮光板16,17を反射鏡12と露光マスク2との間に設ける。これにより,各チップ領域の周辺が多重露光されることがなくなる。実際的には, この遮光板は, X方向に開閉可能な一対の遮光部材16a,16bと, Y方向に開閉可能な一対の遮光部材17a,17bとを組み合わせた構成される。

請求項（抜粋）：

荷電粒子を一定の軌道上に周回させることによって発生したシンクロトロン放射X線を,X線マスクを通して基板の一表面上に画定された複数の被露光領域に逐一照射することによって,該被露光領域の各々に所定の光学パターンを形成する装置であって,該軌道の接線上に設けられ且つ該軌道面に垂直に設置された該基板表面上における該被露光領域の一つに対して該シンクロトロン放射X線の走査を行う反射鏡と,該反射鏡と該基板との間に設けられ,該基板表面上における該シンクロトロン放射X線の幅を,該軌道面に平行且つ該接線に垂直な第1の方向において所定値に制御するための開口を有する第1の遮蔽板と,該反射鏡と該基板との間に設けられ,該基板表面上における該シンクロトロン放射X線の幅を,該軌道面に垂直な第2の方向において所定値に制御するための開口を有する第2の遮蔽板とを備えたことを特徴とするX線露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521