特許

J-GLOBAL ID：200903035590329715

洗浄装置

発明者： 岩下 雅文
出願人/特許権者： 松下電子工業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-047364
公開番号（公開出願番号）：特開平7-263399
出願日： 1994年03月17日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：

【要約】【目的】 遠心乾燥装置をつねにクリーンな状態に保ち、パーティクルの発生を抑える。【構成】 ウエハを収容したカセットなどの被処理物が投入回数の許容値に達すると新たな投入を一定時間停止する。洗浄装置内の制御部において被処理物が処理槽と遠心乾燥装置に存在してないことを確認して、カセットがなければ遠心乾燥装置の洗浄を開始する。遠心乾燥装置の上蓋21を開き、純水配管25をローター24上の中央位置にモーター28により移動させ、ノズル26より純水を吐出する。このときローター24をモーター23により低速回転させて、装置内を洗浄する。一定時間水洗した後、純水の吐出を止めて純水配管25を定位置に移動させる。その後は上蓋21を閉めてモーター23を回転させて、ローター24を乾燥させる。

請求項（抜粋）：

ウエハを収容した被処理物を複数の処理槽に自動搬送して浸漬、洗浄し、次に前記被処理物を遠心乾燥装置で乾燥し、前記被処理物が投入回数の許容値に達したときに新たな投入を一定時間停止し、洗浄装置内の制御部によって前記被処理物が前記処理槽と遠心乾燥装置に存在していないことを確認し、前記遠心乾燥装置内を水洗洗浄し乾燥を行うことを特徴とする洗浄装置。