特許

J-GLOBAL ID：200903035602405153

光ディスクの製造方法、表面処理装置及び光アッシング装置

発明者： 川崎 実
出願人/特許権者： 日本ビクター株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-252410
公開番号（公開出願番号）：特開平10-036536
出願日： 1996年09月03日
公開日（公表日）： 1998年02月10日
要約：

【要約】【課題】 洗浄機能や表面改質機能の高いラジカル酸素の発生効率を向上させた表面処理装置を提供する。【解決手段】 処理チャンバ8と、この処理チャンバ内に収容される被処理体12を保持する保持台11と、この保持台に対向させて設けられて酸素を含む処理ガスを導入する処理ガス導入部13と、ラジカル酸素を発生させるために前記処理ガス導入部と前記保持台との間に複数段に亘って設けられた紫外線ランプ17と、前記保持台に対して前記処理ガス導入部とは反対側に設けられたガス排気部18とを備えるように構成する。これにより、処理ガスがランプ群内を流れる経路を長くして、ラジカル酸素を多量に発生させる。

請求項（抜粋）：

処理チャンバと、この処理チャンバ内に収容される被処理体を保持する保持台と、この保持台に対向させて設けられて酸素を含む処理ガスを導入する処理ガス導入部と、ラジカル酸素を発生させるために前記処理ガス導入部と前記保持台との間に複数段に亘って設けられた紫外線ランプと、前記保持台に対して前記処理ガス導入部とは反対側に設けられたガス排気部とを備えたことを特徴とする表面処理装置。

IPC (4件)：

C08J 7/00 304 ,  C08J 7/04 ,  C08J 7/06 ,  G11B 7/26

FI (4件)：

C08J 7/00 304 ,  C08J 7/04 V ,  C08J 7/06 Z ,  G11B 7/26