特許

J-GLOBAL ID：200903035603968844

液化ガス中の残渣分の除去方法および活性炭の再生方法

発明者： 武石 秀夫 ,  淀谷 遵一 ,  畑谷 行徳 ,  加藤 勝博 ,  宮田 豊 ,  庄 泉
出願人/特許権者： コスモエンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 赤塚 賢次 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-112054
公開番号（公開出願番号）：特開2001-294415
出願日： 2000年04月13日
公開日（公表日）： 2001年10月23日
要約：

【要約】【課題】 従来に比して低温で再生できる吸着剤を用いる液化ガス中の残渣分の除去方法、および該吸着剤を再生する方法を提供する。【解決手段】 液化ガス中の残渣分の除去方法であって、液化ガスを白金が担持された活性炭が充填された充填層に接触させ、該活性炭に残渣分を吸着させる液化ガス中の残渣分の除去方法、前記活性炭に吸着した液化ガス中の残渣分を酸素酸化させることで、前記活性炭を再生処理することを特徴とする吸着剤の再生方法、及び液化ガスを白金が担持された活性炭を充填した充填層と接触させることにより、該液化ガス中の残渣分を前記活性炭に吸着させる液化ガス中の残渣分の除去工程と、前記活性炭に吸着した液化ガス中の残渣分を酸素酸化させることで、前記活性炭を再生処理する活性炭再生工程とを有し、これらの工程を連続的に繰り返し行う液化ガスの残渣分の除去方法。

請求項（抜粋）：

液化ガス中の残渣分の除去方法であって、液化ガスを白金が担持された活性炭を充填した充填層に接触させることにより、前記残渣分を該活性炭に吸着させることを特徴とする液化ガス中の残渣分の除去方法。

IPC (5件)：

C01B 31/08 ,  B01D 15/00 ,  B01J 20/34 ,  C10L 3/10 CST ,  B01J 20/20

FI (5件)：

C01B 31/08 Z ,  B01D 15/00 J ,  B01J 20/34 B ,  B01J 20/20 D ,  C10L 3/00 CST B

Fターム (25件)：

4D017AA04 ,  4D017BA06 ,  4D017CA03 ,  4D017CA06 ,  4D017CB01 ,  4D017DA01 ,  4D017DB03 ,  4D017EA01 ,  4D017EA03 ,  4D017EB07 ,  4G046HC11 ,  4G046HC15 ,  4G066AA05B ,  4G066AA28B ,  4G066AA53A ,  4G066BA25 ,  4G066BA26 ,  4G066BA36 ,  4G066CA51 ,  4G066DA09 ,  4G066DA20 ,  4G066FA12 ,  4G066FA37 ,  4G066GA06 ,  4G066GA32

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 吸着剤の再生方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-328668   出願人：株式会社日本触媒