特許
J-GLOBAL ID:200903035605316194

自動半田付け方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 内田 和男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-345612
公開番号(公開出願番号):特開平6-169164
出願日: 1992年11月30日
公開日(公表日): 1994年06月14日
要約:
【要約】【目的】 酸素濃度の非常に低い雰囲気中で半田付けを行う不活性ガス室の外部において不活性ガスと空気とを混合して所望の酸素濃度の混合気としてから該混合気を不活性ガス室に供給することにより、極めて短時間にかつ簡単に不活性ガス室内の酸素濃度を非常に精度よく調節できるようにし、半田付け性能の飛躍的な向上と操作性の著しい改善を図ることである。【構成】 半田付けを行う不活性ガス室の外部に、不活性ガスと空気とを予め所望の酸素濃度に混合する混合器と、不活性ガスと空気の供給量を調節して混合気の酸素濃度を任意に設定できるようにしたレギュレータを備えた構成を特徴とする。
請求項(抜粋):
不活性ガスを供給し、酸素濃度の非常に低い雰囲気の不活性ガス室内で電子部品が搭載された基板を半田付けする自動半田付け方法において、前記不活性ガスと空気とを前記不活性ガス室の外部で混合して所望の酸素濃度の混合気とし、該混合気を前記不活性ガス室の内部に供給することを特徴とする自動半田付け方法。
IPC (2件):
H05K 3/34 ,  B23K 1/08
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開平4-356349
  • 特開平4-055058
  • 特開昭61-059894
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