セラミックス基板及びその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-077066
公開番号（公開出願番号）：特開2002-274933
出願日： 2001年03月16日
公開日（公表日）： 2002年09月25日
要約：

【要約】【課題】厚み0.1〜1.0mmの焼き上げ状態のセラミックス基板で、一方の主面の表面粗度が0.05μmRa未満、他方の主面の表面粗度が0.2μmRa以上のセラミックス基板とその製造方法を提供する。【解決手段】微粉アルミナの一次粒子1に水3と分散剤ならびに水溶性アクリル系高分子樹脂を添加し分散した後、高分子アクリル系エマルジョンを加えて上記アルミナ粒子を凝集させた後、アンモニア水あるいはアミン類の添加により凝集体の水3との相溶性を調整し、得られたスラリーを用いてドクターブレード法によりグリーンシートを成形し、所定の条件で焼成する。

請求項（抜粋）：

厚みが0.1〜1.0mmであり、研磨等の処理を施さない焼き上げ状態のセラミックス基板であって、一方の主面の表面粗度が0.05μmRa未満、他方の主面の表面粗度が0.2μmRa以上であることを特徴とするセラミックス基板。

IPC (4件)：

C04B 35/111 , H05K 1/03 610 , H05K 3/16 , H05K 3/38

FI (4件)：

H05K 1/03 610 D , H05K 3/16 , H05K 3/38 A , C04B 35/10 D

Fターム (16件)：

4G030AA07 , 4G030AA36 , 4G030AA37 , 4G030BA12 , 4G030CA07 , 4G030CA08 , 4G030GA14 , 5E343AA02 , 5E343AA23 , 5E343AA36 , 5E343BB71 , 5E343DD22 , 5E343DD25 , 5E343EE31 , 5E343GG04 , 5E343GG06

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