特許
J-GLOBAL ID：200903035616488892

光学素子表面の酸化膜・カーボン膜の除去方法、露光方法及び露光装置

発明者：
松成 秀一

松成 秀一 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 藤本 芳洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-108236
公開番号（公開出願番号）：特開2007-281321
出願日： 2006年04月11日
公開日（公表日）： 2007年10月25日
要約：
【課題】光学素子表面に生成される酸化膜・カーボン膜を除去する光学素子表面の酸化膜・カーボン膜の除去方法を提供する。【解決手段】 露光装置の光学素子が設置された空間内に所定のガス圧で窒素、アンモニア、硫化水素、アルゴン、クリプトン、ラドン、ヘリウム、ネオン、フッ素、塩素からなる群の中の1つ以上のガスからなる還元性ガスを導入し(ステップS10)、前記還元性ガスが導入された状態で前記光学素子の表面に露光光を照射し(ステップS11)、前記光学素子が設置された空間内から前記還元性ガスを排気する(ステップS12)。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
露光装置の光学素子が設置された空間内に所定のガス圧で窒素、アンモニア、硫化水素、アルゴン、クリプトン、ラドン、ヘリウム、ネオン、フッ素、塩素からなる群の中の1つ以上のガスからなる還元性ガスを導入するガス導入工程と、 前記ガス導入工程において前記還元性ガスが導入された状態で、前記光学素子の表面に露光光を照射する露光光照射工程と、 前記光学素子が設置された空間内から前記還元性ガスを排気する排気工程と、 を含むことを特徴とする光学素子表面の酸化膜・カーボン膜の除去方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  B08B 7/00
FI (5件)：
H01L21/30 503G ,  H01L21/30 516F ,  H01L21/30 531A ,  G03F7/20 521 ,  B08B7/00
Fターム (15件)：
3B116AA03 ,  3B116AA47 ,  3B116BC01 ,  5F046AA22 ,  5F046BA05 ,  5F046CB01 ,  5F046CB02 ,  5F046CB12 ,  5F046CB25 ,  5F046DA27 ,  5F046DB03 ,  5F046GA03 ,  5F046GA07 ,  5F046GA14 ,  5F046GB01
引用特許：
出願人引用 (1件)

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