特許
J-GLOBAL ID：200903035625450873
アリールスルホニルウレタンのニトロセルロースマニキュア用膜形成樹脂としての利用と、新規なアリールスルホニルウレタンおよびニトロセルロースマニキュア
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
越場 隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-129986
公開番号（公開出願番号）：特開平6-041053
出願日： 1993年05月06日
公開日（公表日）： 1994年02月15日
要約：
【要約】 (修正有)【構成】 分子量が450〜1500で且つ2〜5個のアリールスルホニルウレタン基を有する下記一般式(nは2≦n≦5の整数を表し、Aはnが2、3、4または5である時にそれぞれ2価、3価、4価または5価となる有機官能基を表し、ポリメチレングリコール、ポリオキシアルキレングリコール、ポリエーテルトリオール、ポリエーテルテトラオール、グリセロール、トリメチロールアルカンおよびキシリトールで構成される群の中。から選択されるポリオールA(OH)nの主鎖である。)で表されるポリ(スルホニルウレタン)。【効果】 ニトロセルロースマニキュア用膜形成樹脂であるアリールスルホンアミドーホルムアルデビド樹脂を使用する際に生じる発癌性物質のホルムアルデビドの放出を防げる。
請求項（抜粋）：
2〜5個のアリールスルホニルウレタン基を有し且つ分子量が450 〜1500であるポリ(アリールスルホニルウレタン)。
IPC (2件)：
引用特許：
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