特許

J-GLOBAL ID：200903035627828539

ハーフトーン位相シフトフォトマスク及びそのためのハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス並びにこれを用いたパターン形成方法

発明者： 本永 稔明 ,  伊藤 範人 ,  初田 千秋 ,  藤川 潤二 ,  林 直也 ,  小野寺 俊雄 ,  松尾 隆弘 ,  小川 透 ,  中澤 啓輔
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社 ,  株式会社半導体先端テクノロジーズ
代理人 (1件)： 土井 育郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-101907
公開番号（公開出願番号）：特開2001-290257
出願日： 2000年04月04日
公開日（公表日）： 2001年10月19日
要約：

【要約】【課題】 露光に使用されるエキシマレーザーに長時間にわたって照射されても、透過率及び位相角が変化しないハーフトーン位相シフトフォトマスク及びそのブランクス、並びにこれを用いたパターン形成方法を提供すること。【解決手段】 透明基板101上に少なくともクロムとフッ素とを含むハーフトーン位相シフト膜102のパターンを有するハーフトーン位相シフトフォトマスク108において、ハーフトーン位相シフト膜102により熱処理を施した膜をパターニングすることにより、露光用エキシマレーザー照射における光学特性変化を低減した。

請求項（抜粋）：

透明基板上に少なくともクロムとフッ素とを含むハーフトーン位相シフト膜を有するハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクスにおいて、前記ハーフトーン位相シフト膜に250°C以上、かつ500°C以下の温度で熱処理を施すことにより、露光用エキシマレーザー照射における光学特性変化を低減したことを特徴とするハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (7件)：

2H095BA07 ,  2H095BB02 ,  2H095BB03 ,  2H095BB23 ,  2H095BB36 ,  2H095BB38 ,  2H095BC19