特許

J-GLOBAL ID：200903035629806990

高分子電解質組成物およびプロトン伝導膜

発明者： 山川 芳孝 ,  大月 敏敬
出願人/特許権者： JSR株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-367953
公開番号（公開出願番号）：特開2005-135652
出願日： 2003年10月28日
公開日（公表日）： 2005年05月26日
要約：

【課題】 耐久性、耐候性を向上した高分子電解質膜を提供する。【解決手段】 (a)高分子電解質および(b)紫外線吸収剤を含むことを特徴とする高分子電解質組成物、特にスルホン酸基を有する芳香族系ポリマーであり、スルホン酸基を有する芳香族系ポリマーがポリアリーレンである。紫外線吸収剤はベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系、ニッケル系がある。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(a)高分子電解質および(b)紫外線吸収剤を含むことを特徴とする高分子電解質組成物。

IPC (4件)：

H01B1/06 ,  C08G85/00 ,  H01M8/02 ,  H01M8/10

FI (4件)：

H01B1/06 A ,  C08G85/00 ,  H01M8/02 P ,  H01M8/10

Fターム (18件)：

4J031BA07 ,  4J031BA08 ,  4J031BA16 ,  4J031BB01 ,  4J031BB02 ,  4J031BB04 ,  4J031BC15 ,  4J031BD25 ,  4J031BD30 ,  4J031CA06 ,  4J031CA37 ,  4J031CB04 ,  4J031CB05 ,  5G301CA30 ,  5G301CD01 ,  5H026AA06 ,  5H026CX05 ,  5H026EE18

引用特許：

出願人引用 (1件)

• スルホン化ポリマー組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-019377   出願人：ジェイエスアール株式会社