特許

J-GLOBAL ID：200903035630643698

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： 佐藤 健一郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (4件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-071192
公開番号（公開出願番号）：特開2006-251672
出願日： 2005年03月14日
公開日（公表日）： 2006年09月21日
要約：

【課題】 現像欠陥性能に優れ、更に液浸リソグラフィーにおいてPEDの十分改良されたポジ型レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、(C)一般式(I)の含窒素化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、 (B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (C)一般式(I)の含窒素化合物、 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (13件)：

2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 国際公開2004-068242A1号パンフレット