特許

J-GLOBAL ID：200903035634993766

毛髪化粧料

発明者： 田代 和宏 ,  薄波 史子 ,  矢作 和行
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (1件)： 有賀 三幸 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-235954
公開番号（公開出願番号）：特開平6-080538
出願日： 1992年09月03日
公開日（公表日）： 1994年03月22日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】 次の成分(A)〜(E)を含有する毛髪化粧料。(A)式(1)の高分子量シリコーン;(B)n=1〜500に対応する式(1)の低分子量シリコーン、C4〜30のイソパラフィン系炭化水素及び環状シリコーンから選ばれた低粘度油剤;(C)窒素原子を含有するシリコーン化合物;(D)分子中に少くとも3個の水酸基を有し、かつ25°Cの水系において液晶構造を形成する非イオン性両親媒性化合物;(E)式(3)の化合物。[式中、R1=Ph,Me(但し全てPhの場合は除く);R2=Me,OH;R3=H,低級アルキル基、Ph,Ph-CH2等;Y及びZ=H,OH;n=2,000〜20,000の整数;p,q,r=0〜5の整数]【効果】 毛髪に平滑性、柔軟性、さらっと感及びしっとり感を付与し、しかもこれらの効果が持続する。

請求項（抜粋）：

次の成分(A)、(B)、(C)、(D)及び(E)を含有する毛髪化粧料。(A)下記一般式(1)で表わされる高分子量シリコーンの1種又は2種以上、【化1】(式中、R1はそれぞれ同一又は異なっていてもよいメチル基又はフェニル基を示すが、R1の全部がフェニル基となる場合を除く。R2はメチル基又は水酸基を示す。nは2,000〜20,000の整数を示す)、(B)上記一般式(1)中、nが1〜500である低分子量シリコーン、炭素数4〜30のイソパラフィン系炭化水素及び次の一般式(2)で示される環状シリコーンから選ばれる1種又は2種以上【化2】(式中、mは3〜7の数を示す)、(C)窒素原子を含有するシリコーン化合物、(D)1分子中に少なくとも1個の長鎖分岐アルキル又はアルケニル基を有し、更に少なくとも3個の水酸基を有し、かつ25°Cの水系において液晶構造を形成する非イオン性両親媒性化合物、(E)次の一般式(3)で表わされる化合物【化3】(ここでR4は水素原子、メチル基又はメトキシ基を示し、R5は単結合又は炭素数1〜3の飽和若しくは不飽和の2価の炭化水素基を示す)を示し、Y及びZは水素原子又は水酸基を示しp、q及びrは0〜5の整数を示す。ただし、p=q=r=0でZ=Hの場合、及びp=q=r=0でR1=HでかつZ=OHの場合を除く〕。

IPC (2件)：

A61K 7/06 ,  A61K 7/08