シロキサン系ポリマおよびそれを用いた光学材料

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：澤井敬史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-229960
公開番号（公開出願番号）：特開平5-066301
出願日： 1991年09月10日
公開日（公表日）： 1993年03月19日
要約：

【要約】【目的】可視光〜近赤外光域にわたり低損失であり、容易に屈折率制御ができ、しかも耐熱性に優れ、吸湿に伴う水酸基の振動吸収の影響が少ない光学材料を提供する。【構成】アルキル基、フェニル基、重水素化アルキル基、重水素化フェニル基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化フェニル基を置換基として有するポリシロキサンを基本骨格とするポリマにおいて、ポリマ中のシリコン原子が部分的に、シリコン以外の4価の元素、あるいは希土類以外の3価の元素に置換されたシロキサン系ポリマとそれを用いた光学材料。

請求項（抜粋）：

下記一般式(I):〔式中 R1はCnY2n+1(Yは水素、重水素あるいはハロゲン,nは5以下の正の整数)であらわされるアルキル基、重水素化あるいはハロゲン化アルキル基,あるいはC6Y5(Yは水素、重水素あるいはハロゲン)であらわされるフェニル基、重水素化あるいはハロゲン化フェニル基〕で表わされる繰り返し単位と下記一般式(II):〔式中 MはSiを除く4価の元素、R2はCnY2n+1(Yは水素、重水素あるいはハロゲン,nは5以下の正の整数)であらわされるアルキル基、重水素化あるいはハロゲン化アルキル基,あるいはC6Y5(Yは水素、重水素あるいはハロゲン)であらわされるフェニル基、重水素化あるいはハロゲン化フェニル基〕で表わされる繰り返し単位とを有することを特徴とするシロキサン系ポリマ。

IPC (3件)：

G02B 1/04 , C08G 77/00 NTZ , C08G 79/00 NUR

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平3-055828
特開昭61-272238
特開昭56-159223

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