特許
J-GLOBAL ID:200903035637045834

荷電粒子ビームの入射装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高田 幸彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-164211
公開番号(公開出願番号):特開平5-013197
出願日: 1991年07月04日
公開日(公表日): 1993年01月22日
要約:
【要約】【構成】ビーム輸送系1と円形加速器2との真空隔壁6に設けられたチューブ構造の差動排気機構7を、その中心軸が入射点におけるバンプ軌道の傾きに一致するように設置する。また、真空隔壁6の案内構造8に着脱可能とする。さらに、チューブ構造の差動排気機構7の出入口に荷電粒子ビームの検出手段9を設ける。【効果】円形加速器側の高真空を達成するために通常のポリイミド膜を使用する必要がなく、ポリイミド膜によるビームの散乱が問題となる低エネルギの電子ビームを効率良く入射できる。
請求項(抜粋):
ビーム輸送系から円形加速器に荷電粒子ビームを入射する入射装置において、前記ビーム輸送系と前記円形加速器の真空度差維持のために、入射点に設けられたチューブ構造の差動排気機構の中心軸が、前記円形加速器の中心軌道と水平面内で、入射点におけるバンプ軌道の傾きだけ角度をなすことを特徴とする荷電粒子ビームの入射装置。

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