特許
J-GLOBAL ID：200903035641657844

還元剤の存在下に異方性金属ナノ粒子をベースとする触媒の製造方法

発明者：
トマゾー セシル

トマゾー セシル について

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ウジオ ドゥニ

ウジオ ドゥニ について

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ベオルト ジル

ベオルト ジル について

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ヴェルドン カトリーヌ

ヴェルドン カトリーヌ について

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アルブザル ボグダン

アルブザル ボグダン について


出願人/特許権者：
アンスティテュ フランセ デュ ペトロール

アンスティテュ フランセ デュ ペトロール について


代理人 (4件)： 日比 紀彦 ,  岸本 瑛之助 ,  渡邊 彰 ,  松村 直都
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-540649
公開番号（公開出願番号）：特表2009-515693
出願日： 2006年11月14日
公開日（公表日）： 2009年04月16日
要約：
【課題】還元剤の存在下に異方性金属ナノ粒子をベースとする触媒の製造方法を提供する。【解決手段】元素周期律表の8、9,10族から選ばれた少なくとも一つの金属の源(ソース)に接触する、二つの異なった還元剤を用いる工程を含む、異方性(anisotropic)金属ナノ粒子の製法であり、該製法は少なくとも以下から構成される。a)以下の工程の一つ。a1)元素周期律表の8族、9属、10族から選ばれた少なくとも一つの金属の源を含む水溶液で担体を含浸し、ついで該担体を還元剤R1と接触させる。またはa2)元素周期律表の8族、9属、10族から選ばれた少なくとも一つの金属の源を含む水溶液を還元剤R1と接触させる。b)工程a)で得られた溶液または担体をR1と異なる還元剤R2と接触させる異方性金属ナノ粒子を生成する工程。c)工程a)が工程a2)である場合は、場合によっては担体上に異方性金属ナノ粒子を担持する。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
元素周期律表の8、9,10族から選ばれた少なくとも一つの金属の源(ソース)に接触する、二つの異なった還元剤を用いる工程を含む、異方性(anisotropic)金属ナノ粒子の製法であり、該製法は少なくとも以下から構成される。 a)以下の工程の一つ。 a1)元素周期律表の8族、9属、10族から選ばれた少なくとも一つの金属の源を含む水溶液で担体を含浸し、ついで該担体を還元剤R1と接触させる。または a2)元素周期律表の8族、9属、10族から選ばれた少なくとも一つの金属の源を含む水溶液を還元剤R1と接触させる。 b)工程a)で得られた溶液または担体をR1と異なる還元剤R2と接触させる異方性金属ナノ粒子を生成する工程。 c)工程a)が工程a2)である場合は、場合によっては担体上に異方性金属ナノ粒子を担持する。
IPC (5件)：
B01J 37/16 ,  B82B 3/00 ,  B01J 23/75 ,  B01J 23/44 ,  B01J 23/42
FI (7件)：
B01J37/16 ,  B82B3/00 ,  B01J23/74 311M ,  B01J23/44 Z ,  B01J23/42 Z ,  B01J23/44 M ,  B01J23/42 M
Fターム (25件)：
4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169AA12 ,  4G169BA01A ,  4G169BA01B ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BC67A ,  4G169BC67B ,  4G169BC72A ,  4G169BC72B ,  4G169BC75A ,  4G169BC75B ,  4G169CB02 ,  4G169CC23 ,  4G169DA06 ,  4G169DA08 ,  4G169EA01Y ,  4G169EA02Y ,  4G169FA01 ,  4G169FA02 ,  4G169FB15 ,  4G169FB16 ,  4G169FB45 ,  4G169FB46
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 米国特許 US-A-4714693号明細書
  • 米国特許US-A-6090858号明細書
審査官引用 (11件)
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