特許

J-GLOBAL ID：200903035649946195

酸により開裂し得る放射感応性化合物、これらの化合物を含む放射感応性混合物、およびこの混合物で製造した放射感応性記録材料

発明者： ゲオルク、パウロスキー ,  ラルフ、ダメル ,  ホルスト、レシェルト ,  ワルター、シュピース ,  シャルロッテ、エッケス
出願人/特許権者： ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-124067
公開番号（公開出願番号）：特開平5-221954
出願日： 1992年04月17日
公開日（公表日）： 1993年08月31日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】 一般式I、例えば式?@の化合物であって、反復基(R3 -Y-)中のR3 とYが同一または異なる化合物。【効果】 本化合物は照射によりスルホン酸を発生し、そのスルホン酸により開裂し得る。本化合物はアルカリに可溶な結合剤との組合わせで、特にUV放射および高エネルギー放射用の記録材料に使用するポジ型混合物を与える。これら材料は解像度と画像コントラストが高く、貯蔵安定性が優れている。(R1 はアリール基等、R2 はH等、R3 はアルキレン基等、Xはアリール基等、YはO等、ZはO等、Kは0〜4の整数、mは2以上の整数、nは1〜3の整数である)

請求項（抜粋）：

式I(式中、R1 はアルキル、ハロゲノアルキルまたはアリール基であり、R2 は水素原子、アルキル、アルケニルまたはアリール基、または(R1 -SO2 -O-)n X-基であり、R3 はシクロアルキレンジアルキル、シクロアルケニレンジアルキル、アリーレンジアルキルまたはヘテロアリーレンジアルキル基、またはアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレンまたはアリーレン基であり、Xは、1〜3個のスルホニルオキシ基R1 -SO2 -Oで置換された、アルキル、シクロアルキルまたはアリール基であり、YはO、S、CO、CO-O、SO2 、SO2 -O、NR4 、CO-NH、O-CO-NR5 、NH-CO-NR5 またはNR5 -CO-Oであり、ZはO、CO-NR6 、O-CO-NR6 またはNH-CO-NR6 であり、R4 はアシル基であり、R5 は水素原子またはアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニルまたはアリール基であり、R6 はアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニルまたはアリール基であり、kは0〜4の整数であり、mは2以上の整数であり、nは1〜3の整数である)化合物であって、反復基(R3 -Y-)中のR3 およびYが同一の、または異なった定義を有する化合物。

IPC (5件)：

C07C309/75 ,  C09K 9/02 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027