特許
J-GLOBAL ID：200903035652069324
イオン注入装置のスキャン効率を高める装置及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-512231
公開番号（公開出願番号）：特表2001-516946
出願日： 1998年09月15日
公開日（公表日）： 2001年10月02日
要約：
【要約】イオンを基板に注入するためのイオン注入装置は、イオンビームを発生させるためのイオンビーム発生部と、ビームイオンが注入される基板1枚又は2枚以上を支持するための支持手段と、基板とイオンビームの少なくとも一方を他方に対してスキャンすることにより、ビームが所定の経路に従って基板を移動するようにするスキャン手段とを備えている。イオンビームが基板の縁部を横切って移動し、イオンビームが基板に入射しているスキャンの位置からイオンビームが一部も基板に入射しない位置にまで来た時に、イオンビームの基板に入射している断面積の割合が変化することをモニタするよう、モニタ手段が配置される。本発明は、モニタ手段にしたがい、イオンビームが基板の縁部を横切って移動する時に、基板に入射する断面積の大きさがゼロに達する瞬間を検出するための検出器と、かかる瞬間を検出する検出手段にしたがい、イオン注入装置の後続の操作を行うための操作手段とを更に備える。
請求項（抜粋）：
イオン注入装置であって、イオンビームを発生させるためのイオンビーム発生部と、複数の基板を支持するに適する支持手段と、前記複数の基板の少なくとも1枚と前記イオンビームとを相互に所定の第1の経路に従って走査ないしスキャンさせる走査手段であって、この第1の経路について、前記支持手段は前記第1の経路とは異なる第2の経路に従って前記複数の基板を前記イオンビームへと順次導入するに適している、前記走査手段と、前記第2の経路に従って移動する基板により描かれる経路上に入射するイオンビームの断面積の割合の変化をモニタするに適するモニタ手段と、前記イオンビームが、前記経路に入射する前記走査上の位置から前記経路上を移動する際に、前記割合がゼロに達する瞬間を検出するに適する検出手段とを備えるイオン注入装置。
IPC (4件)：
H01J 37/317
, C23C 14/48
, H01J 37/304
, H01L 21/265 603
H01J 37/317 A
, C23C 14/48 Z
, H01J 37/304
, H01L 21/265 603 C
4K029CA10
, 4K029DE06
, 5C034CC04
, 5C034CC05
, 5C034CD04
