特許
J-GLOBAL ID：200903035655558016
プラズマ処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-007906
公開番号（公開出願番号）：特開平8-203865
出願日： 1995年01月23日
公開日（公表日）： 1996年08月09日
要約：
【要約】【目的】プラズマ処理装置の経時変化を未然に防止する。【構成】トレーサー1が、試料台12を取り囲むアース電極11の表面から設定深さの位置に埋め込まれる。反応室24内のマイクロ波への磁力線31の作用により発生したプラズマ中のイオン30が、アース電極11に衝突しアース電極11に損傷を与える。損傷が設定深さに達したときにプラズマ中に浮遊するトレーサー1は、分光器2及び質量分析装置3によって検出される。【効果】トレーサー1の測定によりアース電極11の損傷の度合を知ることができ、アース電極11は新しいものと交換される。このため、プラズマ処理装置の経時変化が予防される。
請求項（抜粋）：
反応室と,前記反応室内に導入された処理ガスをプラズマ化する手段と,前記反応室内に配置されて前記反応室の側壁に取り付けられると共に被処理材を保持する被処理材保持部材と,前記被処理材保持部材に対向して配置され前記反応室の側壁に取り付けられる電極と,前記被処理材保持部材,前記電極、及び前記反応室側壁の少なくとも1つの表面部分に設けられたトレーサー物質と,前記トレーサー物質を計測する手段とを備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/3065
, C23F 4/00
, H05H 1/46
