特許

J-GLOBAL ID：200903035661612499

液晶マスク式露光マーキング装置

発明者： 佐々木 弘治 ,  桑原 皓二 ,  香川 博之 ,  近藤 克己 ,  小村 真一
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-284854
公開番号（公開出願番号）：特開平11-119439
出願日： 1997年10月17日
公開日（公表日）： 1999年04月30日
要約：

【要約】【課題】本発明は、露光マーキングの処理時間の短縮化および高効率で鮮明な露光マーキング技術を確立することを課題とする。【解決手段】YAGレーザの第3高調波である波長355nmのレーザ光を発振するレーザ発振器1からの紫外線レーザ光2を加工室13内の被露光部材である液晶ディスプレイ用ガラス基板12上の所望の位置に一括的に効率よく露光マーキングするようにしており、そのために1/2波長板4,レーザビーム拡大レンズ系5,偏光ビームスプリッタ9,反射鏡10,加工室13、及び縮小結像レンズ11とを備えるとともに、紫外線レーザ光透過型の露光パターン作成用の液晶パネル式マスク6を用いることにより上記課題を解決している。

請求項（抜粋）：

露光用の光源と、該光源からの光を所定の露光パターンに形成する液晶パネル型マスクと、該液晶パネル型マスクを通過し、所定の露光パターンに形成された光を被露光物に結像することで露光マーキングする縮小結像光学系とを備えた液晶マスク式露光マーキング装置において、前記露光用の光源を紫外線レーザ発振器とすると共に、前記液晶パネル型マスクの後段に偏光ビームスプリッタを配置し、前記液晶パネル型マスクのマスクパターンを通過した紫外線レーザ光とそれ以外の紫外線レーザ光とを、この偏光ビームスプリッタで分離し、該偏光ビームスプリッタで分離されたマスクパターンを通過した紫外線レーザ光を前記縮小結像光学系を介して前記被露光物に照射してマーキングすることを特徴とする液晶マスク式露光マーキング装置。

IPC (2件)：

G03F 7/20 505 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/20 505 ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 502 Z

引用特許：

審査官引用 (4件)

• パターン転写装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-058500   出願人：株式会社日立製作所
• レーザマーカ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-192861   出願人：株式会社日立製作所
• レーザ光によるパターン刻印方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-061587   出願人：株式会社日立製作所
• レーザ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-250910   出願人：富士写真フイルム株式会社