特許

J-GLOBAL ID：200903035668341628

光障壁

発明者： デビッド・ダブリュウ・フーラ ,  フィリップ・ジー・ニッケル
出願人/特許権者： アジレント・テクノロジーズ・インク
代理人 (1件)： 加藤 公久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-207353
公開番号（公開出願番号）：特開2001-068659
出願日： 2000年07月07日
公開日（公表日）： 2001年03月16日
要約：

【要約】【課題】ITO(インジウムスズ酸化物)をエッチングしないで容易にエッチング可能な光遮蔽層を提供することができる。【解決手段】本発明による光障壁は、タングステン(W)またはチタン-タングステン(TiW)を含む。光障壁材料からなる層は、ITO上に成膜される。その後、この光障壁材料は、周知の写真平板(フォトリトグラフィー)フォトレジスト処理工程と、エッチング剤としての過酸化水素とを使用してパターン化される。

請求項（抜粋）：

タングステンのパターン化層を有する光障壁。

IPC (2件)：

H01L 27/14 ,  H01L 31/10

FI (2件)：

H01L 27/14 D ,  H01L 31/10 A