特許
J-GLOBAL ID:200903035691195078

連続的接触水素化のための方法、この方法により得られた組成物およびこれら組成物の使用

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト ,  ラインハルト・アインゼル
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-379457
公開番号(公開出願番号):特開2006-188520
出願日: 2005年12月28日
公開日(公表日): 2006年07月20日
要約:
【課題】達成すべき変換率に対して可能な限り少量の触媒で実施可能な水素化方法を提供する。【解決手段】水素化を少なくとも2個の直列に連結された水素化ユニット中で実施し、その際、2個の水素化ユニットの少なくとも1個をループ式に運転し、水素化のためにa)実施すべき水素化キネティクスを測定し、b)予め設定された反応器入口濃度および出口濃度によって、使用される反応器の型に必要な触媒体積を算出し、c)算出された触媒体積を組合せることによって、必要とされる全触媒体積を算出し、d)c)で算出された全触媒体積を変換率に対してプロットすることにより曲線を作成し、e)d)で作成された曲線の最小値を定め、かつ、f)個々の水素化ユニットの、最小値に割り当てられた触媒体積を算出することによって得られる触媒体積と、最大20%異なる触媒体積を使用する連続的接触水素化法により達成される。【選択図】なし
請求項(抜粋):
固定床中に配置された固体触媒上で、水素含有ガスを用いて、水素化可能な化合物を連続的に接触水素化するための方法において、 水素化を、少なくとも2個の直列に連結された水素化ユニット中で実施し、かつ2個の水素化ユニットの少なくとも1個をループ式に運転し、その際、水素化ユニットのために、 a)実施すべき水素化キネティクスを測定し、 b)予め設定された反応器入口濃度および出口濃度によって、使用される反応器の型に必要な触媒体積を算出し、 c)算出された触媒体積を組合せることによって、必要とされる全触媒体積を算出し、その際、それぞれ、使用された水素化すべき出発材料の望ましい最終濃度を導くようにのみ組合せ、 d)c)で算出された全触媒体積を変換率に対してプロットすることにより曲線を作成し、 e)d)で作成された曲線の最小値を定め、かつ、 f)個々の水素化ユニットの、最小値に割り当てられた触媒体積を算出する、 ことによって得られる触媒体積と、最大20%異なる触媒体積を使用することを特徴とする、水素化可能な化合物を連続的に接触水素化するための方法。
IPC (2件):
C07C 67/303 ,  C07C 69/75
FI (2件):
C07C67/303 ,  C07C69/75 Z
Fターム (15件):
4H006AA02 ,  4H006AA04 ,  4H006AC11 ,  4H006AC48 ,  4H006BA22 ,  4H006BA23 ,  4H006BA55 ,  4H006BC34 ,  4H006BD81 ,  4H006BE20 ,  4H006BJ20 ,  4H006BS20 ,  4H006BT22 ,  4H039CA40 ,  4H039CB10
引用特許:
出願人引用 (9件)
  • US5286898
  • US5319129
  • US3027398
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審査官引用 (1件)

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