特許

J-GLOBAL ID：200903035691408764

露光用マスク及び投影露光方法

発明者： 伊藤 信一
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-043616
公開番号（公開出願番号）：特開平7-253649
出願日： 1994年03月15日
公開日（公表日）： 1995年10月03日
要約：

【要約】【目的】 レベンソン型位相シフト法における周期的パターンと同等に孤立パターンに対する解像力及び焦点深度を向上させることができ、パターン露光精度の向上をはかり得る露光用マスクを提供すること。【構成】 透光性基板101上に所望のマスクパターンを形成した露光用マスクにおいて、透光性基板101上に開口パターンを有するように形成され、第1の露光波長λ1と第2の露光波長λ2のいずれにおいても遮光性を有する第1の膜104と、第1の膜104の開口パターンに選択的に形成され、第1の露光波長λ1において透光性を有し透過光に対して180度の位相差を与え且つ第2の露光波長λ2において遮光性を有する第2の膜103とを具備してなることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

透光性基板上に所望のマスクパターンを形成した露光用マスクにおいて、前記透光性基板上に開口パターンを有するように形成され、第1の露光波長と第2の露光波長のいずれにおいても遮光性を有する第1の膜と、第1の膜の開口パターンに選択的に形成され、第1の露光波長において透光性を有し透過光に対して所望の位相差を与え且つ第2の露光波長において遮光性を有する第2の膜とを具備してなることを特徴とする露光用マスク。

IPC (4件)：

G03F 1/08 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 502 C ,  H01L 21/30 502 P