特許
J-GLOBAL ID:200903035694731442

流体を滴下させる装置と、この方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (9件): 萼 経夫 ,  宮崎 嘉夫 ,  舘石 光雄 ,  小野塚 薫 ,  ▲高▼ 昌宏 ,  中村 壽夫 ,  加藤 勉 ,  村越 祐輔 ,  小宮 知明
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-532398
公開番号(公開出願番号):特表2005-504908
出願日: 2002年09月26日
公開日(公表日): 2005年02月17日
要約:
流体を滴下させる装置と、この方法である。滴下装置は、単一のコントロールチャンバ(4)内に1つまたは複数のプロセスチャンバ(8)を備えており、適当な弁操作を行うとともに、コントロールチャンバに対してコントロール流体を加えたり、取り除くようにすることで、プロセスチャンバの容量を増大させたり減少させる。この結果、流体を滴下させるように、プロセスチャンバ(8)に流体を流出入させるが、特に、この流量を精密に制御できるようにする。
請求項(抜粋):
マイクロエレクトロニックデバイスまで流体を滴下させる装置であって、コントロールチャンバ内に収容されるプロセスチャンバと、流体リザーバーと流通するように前記プロセスチャンバに設けられた入口と、前記マイクロエレクトロニックデバイスの製造装置と流通するように前記プロセスチャンバに設けられた出口とを有し、さらに、前記コントロールチャンバ内のコントロール流体の流量または圧力を用いて、前記プロセスチャンバの容量を制御可能にしたことを特徴とする装置。
IPC (4件):
F04B43/12 ,  B05C11/08 ,  B05C11/10 ,  H01L21/027
FI (7件):
F04B43/12 A ,  F04B43/12 J ,  F04B43/12 T ,  F04B43/12 Z ,  B05C11/08 ,  B05C11/10 ,  H01L21/30 564Z
Fターム (16件):
3H077AA01 ,  3H077CC04 ,  3H077CC08 ,  3H077DD15 ,  3H077EE05 ,  3H077EE15 ,  3H077FF07 ,  3H077FF08 ,  3H077FF12 ,  4F042BA02 ,  4F042CB07 ,  4F042CB19 ,  4F042CB24 ,  5F046JA02 ,  5F046JA03 ,  5F046JA16
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 薬液ポンプ
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-182173   出願人:シーケーディ株式会社
  • 特開昭56-032086
  • 流体ポンプ
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-192130   出願人:アイシン精機株式会社
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