低アミン含有率のジスアゾ顔料の製造方法およびそれにより得られるジスアゾ顔料

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-016734
公開番号（公開出願番号）：特開平8-209008
出願日： 1995年02月03日
公開日（公表日）： 1996年08月13日
要約：

【要約】【目的】残留カップラーおよびその分解物、特に、芳香族アミン類の含有率の低いジスアゾ顔料を提供する。【構成】ベンジジン類のテトラゾ溶液とアセトアセトアニリド類を含むカップラー液とをカップリングさせて得られたジスアゾ顔料スラリーに、次亜ヨウ素酸塩を添加し、次いで酸性下、ヨウ素の微細粒子を析出させて顔料スラリーの処理を行うことを特徴とするジスアゾ顔料の製造方法。および上記方法で得られるジスアゾ顔料。

請求項（抜粋）：

ベンジジン類のテトラゾ溶液と、該ベンジジン類に対して化学量論的に過剰のアセトアセトアニリド類を含むカップラー液とをカップリングさせて得られたジスアゾ顔料スラリーに、次亜ヨウ素酸塩を添加し、次いでpH5.5以下に調整して、析出させたヨウ素により顔料スラリーを処理することを特徴とする低アミン含有率のジスアゾ顔料の製造方法。

IPC (4件)：

C09B 41/00 , C09B 35/205 , C09B 67/20 , C09B 67/54

前のページに戻る