特許

J-GLOBAL ID：200903035707784354

異物検出方式および異物検査装置

発明者： 谷内 俊明 ,  野副 真理 ,  井古田 まさみ ,  秋山 伸幸 ,  近松 秀一
出願人/特許権者： 日立電子エンジニアリング株式会社 ,  株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 梶山 佶是 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-229438
公開番号（公開出願番号）：特開平5-045862
出願日： 1991年08月15日
公開日（公表日）： 1993年02月26日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 S/N比を向上してメモリパターンの異物を良好に検出する方式と装置を提供する。【構成】 検査装置は、集光レンズ3とCCDセンサ41の間にハーフミラー51を設け、これらの間、およびミラーの反射側のそれぞれにフーリェ変換面を形成する。CCD側の変換面にパターンフィルタとして液晶フィルタ51を、反射側の変換面にTVカメラ52をそれぞれ配設する。TVカメラにより受像された各フーリェ変換パターンを記憶するメモリ72と、共通パターンを抽出するCPU71、および共通パターンを液晶フィルタに設定するパターン発生回路62とにより構成される。

請求項（抜粋）：

規則的なパターンが形成されたウエハ・レチクル等の被検体表面に対し、レーザビームを照射し、散乱,回折光を集光レンズにより集光する光学系において、集光レンズにより形成されるフーリェ変換面に前記回折光により形成される被検体表面パターン特有のフーリェ変換パターンに適合する遮光パターンを有する空間フィルタを備えることを特徴とする異物検出方式。

IPC (7件)：

G03F 1/08 ,  G01N 21/88 ,  G06F 15/62 405 ,  G06F 15/66 ,  G06F 15/70 330 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66