特許
J-GLOBAL ID:200903035712013714
表示装置の製造方法、表示装置及び液晶表示装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐藤 勝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-045132
公開番号(公開出願番号):特開2002-244576
出願日: 2001年02月21日
公開日(公表日): 2002年08月30日
要約:
【要約】【課題】 薄膜デバイス等からなる素子の確実な転写を図ると共に、その生産性も高めることができる表示装置とその製造方法を提供する。【解決手段】素子形成基板11上に薄膜トランジスタ素子12を密に配列した状態で形成し、それら薄膜トランジスタ素子12を密に配列した状態の一部を取り出した複数個の組である素子ブロック13ごとに表示装置基板14上に転写する。個々の素子をそれぞれ転写する場合に比較して、その転写効率が高くなり、また転写される単位のサイズも大きくなることから取扱いも容易となる。
請求項(抜粋):
素子形成基板上に素子を密に配列した状態で形成し、前記素子を前記密に配列した状態の一部を取り出した複数個の組ごとに表示装置基板上に転写することを特徴とする表示装置の製造方法。
IPC (6件):
G09F 9/00 338
, G02F 1/1368
, G09F 9/30 338
, H01L 27/12
, H01L 29/786
, H01L 21/336
FI (5件):
G09F 9/00 338
, G02F 1/1368
, G09F 9/30 338
, H01L 27/12 B
, H01L 29/78 627 D
Fターム (26件):
2H092JA24
, 2H092MA01
, 2H092NA07
, 2H092NA27
, 2H092NA29
, 5C094BA03
, 5C094BA04
, 5C094BA24
, 5C094BA43
, 5C094CA19
, 5C094DA14
, 5C094DA15
, 5C094DB04
, 5C094EA04
, 5C094EA07
, 5C094EB02
, 5F110AA16
, 5F110BB02
, 5F110DD02
, 5F110DD05
, 5F110QQ16
, 5G435BB04
, 5G435BB12
, 5G435EE33
, 5G435HH13
, 5G435KK05
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