特許
J-GLOBAL ID:200903035713502999
カーボン硬質膜を形成した基材
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-197448
公開番号(公開出願番号):特開平5-017864
出願日: 1991年07月12日
公開日(公表日): 1993年01月26日
要約:
【要約】【構成】表面に中間層2を介してカーボン硬質膜3を形成した基材において、中間層2がSiOx (0.1≦x≦0.5)の式で示される非化学量論的な組成の酸化シリコンである。【効果】優れた耐摩耗性と強固な密着性がえられ、信頼性に優れたカーボン硬質膜を形成した基材を提供することができ、応用範囲が大幅に広る。
請求項(抜粋):
表面に中間層を介してカーボン硬質膜を形成した基材において、中間層がSiOx (0.1≦x≦0.5)の式で示される非化学量論的な組成の酸化シリコンであることを特徴とするカーボン硬質膜を形成した基材。
IPC (4件):
C23C 14/06
, C23C 16/02
, C23C 16/26
, C23C 28/04
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特開平1-132779
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特開昭62-196371
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特開昭63-093866
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