特許

J-GLOBAL ID：200903035719203578

光磁気記録の記録制御方法

発明者： 井手 浩 ,  桐野 文良 ,  戸田 剛 ,  前田 武志 ,  土永 浩之
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 磯村 雅俊
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-302174
公開番号（公開出願番号）：特開平6-150429
出願日： 1992年11月12日
公開日（公表日）： 1994年05月31日
要約：

【要約】【目的】 環境温度変動やパターン間の干渉等を除去し、マークエッジ記録を行う場合に好適な、微小磁区を安定に形成することを可能とする光磁気記録の記録制御方法を提供すること。【構成】 少なくとも外部印加磁界とレーザ光を用いて記録,再生あるいは消去を行う光磁気記録において、記録時に用いるレーザパルスの波形の形状として、レーザパワーレベルが、少なくとも第1レベルと第2レベルとの2つのレベルを有するものを用い、それらの2つのレベルの設定値の比が一定値となる如く制御することを特徴とする光磁気記録の記録制御方法。

請求項（抜粋）：

少なくとも外部印加磁界とレーザ光を用いて記録,再生あるいは消去を行う光磁気記録において、記録時に用いるレーザパルスの波形の形状として、レーザパワーレベルが、少なくとも第1レベルと第2レベルとの2つのレベルを有するものを用い、それらの2つのレベルの設定値の比が一定値となる如く制御することを特徴とする光磁気記録の記録制御方法。

IPC (3件)：

G11B 11/10 ,  G11B 7/00 ,  G11B 7/125