ポリッシング装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-289822
公開番号（公開出願番号）：特開2002-103212
出願日： 2000年09月25日
公開日（公表日）： 2002年04月09日
要約：

【要約】【課題】ガイド手段によってガイドリングの摺動抵抗を小さくし、また、ガイドリングの挙動を安定させることにより、被加工物の研磨加工における加工量の均一性を向上させる。【解決手段】高圧流体源により空気などの流体が、圧力調整装置28、流体導入経路27を介して、圧力室26内に送り込まれる。この流体がダイヤフラム25を押圧して、加圧リング24、リニアシャフト22を介してガイドリング21を研磨布に押圧する。このとき、ガイド手段Gがガイドリング21を上下動自在に支持することによってガイドリング21の摺動抵抗が小さくなり、ガイドリング21が加圧されるときのガイドリング21の挙動が安定する。これにより、ガイドリング21の加圧力をトップリング14とほぼ同じ加圧力で研磨布に対して安定して加圧することができ、ウェーハ16の研磨加工において加工量の均一性を保つ。

請求項（抜粋）：

被加工物を保持するポリッシングヘッドと、このポリッシングヘッドに対向して配置され、前記ポリッシングヘッドと相対運動を行い、表面に研磨布を有する定盤とを備え、前記被加工物の表面を、前記研磨布に押し付けて前記被加工物の表面の研磨を行うポリッシング装置において、前記ポリッシングヘッドは、前記定盤の表面に対向して配置されたトッププレートと、このトッププレートの下面に設けられ、前記被加工物を吸着して保持する円板状のトップリングと、このトップリングに保持された被加工物の外周に沿う様に前記トッププレートの下面に配置され、前記被加工物の飛び出しを防止するガイドリングと、このガイドリングの上端円周上の複数箇所に取り付けられ、前記定盤の表面と垂直な方向に向けられたリニアシャフト、及び前記トッププレートに取り付けられ前記リニアシャフトを上下動自在に係合するブッシュとからなる前記ガイドリングのガイド手段と、前記トッププレートに設けられ、前記ガイドリングを前記研磨布に対して加圧する加圧機構と、を備えたことを特徴とするポリッシング装置。

IPC (3件)：

B24B 37/04 , B24B 37/00 , H01L 21/304 622

FI (3件)：

B24B 37/04 H , B24B 37/00 B , H01L 21/304 622 K

Fターム (7件)：

3C058AA07 , 3C058AA12 , 3C058AB04 , 3C058AC01 , 3C058BA05 , 3C058CB01 , 3C058DA17

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