特許
J-GLOBAL ID：200903035745101740
薄層構造物の製造方法及び製造装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤本 昇
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-544168
公開番号（公開出願番号）：特表2003-523070
出願日： 1999年03月25日
公開日（公表日）： 2003年07月29日
要約：
【要約】 薄層構造物の製造方法及び製造装置多層薄層構造物を製造するとき、インクジェットプリント原理に基づくプログラムに制御されたプロセスにより、各層は、その目的が要求する幾何的形状で、画素毎に基板に塗布される。各々の薄層の材料は、溶剤を加えることにより又は加熱によって流動可能な状態となっている。個々の単数又は多数の層は、微細な小滴又は流動性の噴流の形状で、随意的に一つの同じ層において異なる厚さで、コンピューターに記憶されたプログラムに制御されるとおりに、材料供給の横の動きに対して垂直に移動できる基板に塗布される。
請求項（抜粋）：
薄く幾何的に構成された単数又は複数の層を、随意的に異なる厚さで、基板上に製造する薄層構造物の製造方法であって、熱又は溶剤によって液化され且つノズルヘッドに連結された貯蔵タンクに貯蔵された出発材料が、単数又は重ね合わされた層を形成すべく基板表面に供給されるというインクジェットプリントに基づくプロセスであり且つプログラムに制御されたプロセスを使用することにより、各層をその各目的に適応した幾何的形状で、画素毎に基板に直接塗布し、物質の適量と、ノズルヘッドの前後の動き及び垂直の対応する基板の動きによる位置決めとを決定する特定のプログラムによって前記プロセスを制御することを特徴とする薄層構造物の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H05K 3/10 D
, H01L 21/02 Z
5E343AA02
, 5E343AA11
, 5E343AA22
, 5E343BB25
, 5E343BB72
, 5E343DD15
, 5E343DD18
, 5E343FF05
, 5E343GG06
, 5E343GG08
, 5E343GG11
