特許
J-GLOBAL ID:200903035780386812

投影光学系及びそれを用いた投影露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高梨 幸雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-218179
公開番号(公開出願番号):特開平11-054411
出願日: 1997年07月29日
公開日(公表日): 1999年02月26日
要約:
【要約】【課題】 投影光学系に含まれる光学エレメントが有する複屈折性を補正し、高解像度のパターンが得られる投影光学系及びそれを用いた投影露光装置を得ること。【解決手段】 第1物体のパターンを第2物体上に投影する投影光学系において、該投影光学系はそれに含まれる光学エレメントが有する複屈折性を補正する複屈折補正手段を有していること。
請求項(抜粋):
第1物体のパターンを第2物体上に投影する投影光学系において、該投影光学系はそれに含まれる光学エレメントが有する複屈折性を補正する複屈折補正手段を有していることを特徴とする投影光学系。
IPC (4件):
H01L 21/027 ,  G02B 5/30 ,  G02B 13/24 ,  G03F 7/20 521
FI (4件):
H01L 21/30 515 D ,  G02B 5/30 ,  G02B 13/24 ,  G03F 7/20 521

前のページに戻る