特許
J-GLOBAL ID：200903035784604075
フォトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-221351
公開番号（公開出願番号）：特開平6-069185
出願日： 1992年08月20日
公開日（公表日）： 1994年03月11日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、レジストパターン寸法に忠実に加工された精度の高いフォトマスクを得ることを最も主要な特徴とする。【構成】 透明基板1と、該透明基板1の上に設けられた遮光パターン5と、を備える。遮光パターン5は、加工時のエッチング速度が、深さ方向にエッチングが進むにつれて速くなるように成膜されている。
請求項（抜粋）：
透明基板と、前記透明基板の上に設けられた遮光パターンと、を備え、前記遮光パターンは、加工時のエッチング速度が、深さ方向にエッチングが進むにつれて速く早くなるように成膜されている、フォトマスク。
引用特許：
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