熱処理装置、熱処理方法、強誘電体薄膜の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小池隆彌
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-339623
公開番号（公開出願番号）：特開平11-171548
出願日： 1997年12月10日
公開日（公表日）： 1999年06月29日
要約：

【要約】【課題】本発明は、熱処理方法として、減圧下での熱処理が極めて有効であることを見い出しなされたものであって、この様な減圧条件での熱処理を低温で最適に行うことを可能するとこによって、優れた材料特性を有するにも拘わらず結晶化温度が高い為にデバイス化への適用が困難であった強誘電体材料であっても、デバイス化への検討が可能となる熱処理装置、熱処理方法、及び強誘電体薄膜の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】板状試料11,12を加熱処理する際、板状試料11,12の一方の面から加熱すると同時に他方の面にガスを吹き付ける機構を具備して熱処理装置を構成する。

請求項（抜粋）：

板状試料を加熱処理する際、板状試料の一方の面から加熱すると同時に他方の面にガスを吹き付ける機構を具備することを特徴とする熱処理装置。

IPC (2件)：

C01G 35/00 , H01B 3/12 312

FI (2件)：

C01G 35/00 , H01B 3/12 312

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