特許
J-GLOBAL ID：200903035813091082

紫外光遮蔽素子とその製造方法及び光学装置

発明者：
井上 健二

井上 健二 について

, 
池田 健一

池田 健一 について


出願人/特許権者：
松下電器産業株式会社

松下電器産業株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-110551
公開番号（公開出願番号）：特開2004-317738
出願日： 2003年04月15日
公開日（公表日）： 2004年11月11日
要約：
【課題】300nm〜400nmの紫外光の透過率を1%以下に抑え、かつ急峻な遷移勾配を持つ紫外光遮蔽素子を、安定して精度良く生産性良く製作する。【解決手段】透明基板(1)上に、高屈折率膜(3)と低屈折率膜(2)とを含む膜を多層積層した紫外光遮蔽素子であって、高屈折率膜(3)及び低屈折率膜(2)から選ばれる少なくとも一つ膜の光吸収係数が0.1以上となる波長が300nmから360nmの範囲にある。この膜は、酸素を一部分導入するスパッタ方式により、吸収係数kが0.1を越える波長が300nmから360nmの半にある膜を作成し、30nm以下の薄い膜を含む膜設計が可能になり急峻な遷移特性を有し且つ300から400nmの紫外光を1%以下にする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
透明基板上に、高屈折率膜と低屈折率膜とを含む膜を多層積層した紫外光遮蔽素子であって、 前記高屈折率膜及び低屈折率膜から選ばれる少なくとも一つ膜の光吸収係数が0.1以上となる波長が300nmから360nmの範囲にあることを特徴とする紫外光遮蔽素子。
IPC (5件)：
G02B5/28 ,  C03C17/34 ,  C23C14/08 ,  C23C14/34 ,  G03B21/00
FI (8件)：
G02B5/28 ,  C03C17/34 Z ,  C23C14/08 ,  C23C14/08 F ,  C23C14/08 J ,  C23C14/08 N ,  C23C14/34 M ,  G03B21/00 E
Fターム (33件)：
2H048GA04 ,  2H048GA09 ,  2H048GA18 ,  2H048GA33 ,  2H048GA52 ,  2H048GA60 ,  2K103AA01 ,  2K103AA05 ,  2K103AA11 ,  2K103AB06 ,  2K103AB07 ,  2K103BC09 ,  2K103BC26 ,  2K103BC33 ,  2K103CA75 ,  2K103CA76 ,  4G059AA11 ,  4G059AC07 ,  4G059EA01 ,  4G059EA04 ,  4G059EB04 ,  4G059GA02 ,  4G059GA04 ,  4G059GA12 ,  4K029AA09 ,  4K029AA29 ,  4K029BA43 ,  4K029BA46 ,  4K029BA48 ,  4K029BC07 ,  4K029CA05 ,  4K029DC27 ,  4K029GA02
引用特許：
審査官引用 (3件)

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