特許
J-GLOBAL ID：200903035827611348

重合性アダマンタン誘導体、高分子化合物、フォトレジスト用樹脂組成物、及び半導体の製造方法

発明者：
小山 裕

小山 裕 について

, 
足立 知子

足立 知子 について

, 
堤 聖晴

堤 聖晴 について


出願人/特許権者：
ダイセル化学工業株式会社

ダイセル化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 後藤 幸久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-272029
公開番号（公開出願番号）：特開2005-029520
出願日： 2003年07月08日
公開日（公表日）： 2005年02月03日
要約：
【課題】 フォトレジスト用のポリマーに基板密着性と適度な親水性、及び透明性を付与できる新規な重合性単量体を提供する。【解決手段】 重合性アダマンタン誘導体は、下記式(1a)又は(1b)【化1】(式中、R1、R2は、それぞれ、水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフルオロアルキル基を示し、R3はフッ素原子又はフルオロアルキル基を示す。式中の環は置換基を有していてもよい)で表される。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下記式(1a)又は(1b)
IPC (6件)：
C07C69/54 ,  C07C67/08 ,  C08F16/26 ,  C08F20/28 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (6件)：
C07C69/54 B ,  C07C67/08 ,  C08F16/26 ,  C08F20/28 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (48件)：
2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB41 ,  4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AA03 ,  4H006AB92 ,  4H006AC48 ,  4H006BJ30 ,  4H006BM10 ,  4H006BM71 ,  4H006BN20 ,  4H006KA06 ,  4H006KC14 ,  4H006KE20 ,  4H006KF10 ,  4J100AE09P ,  4J100AE09Q ,  4J100AE38Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL24Q ,  4J100AL26Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BA20Q ,  4J100BB18Q ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC52Q ,  4J100BC53Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA03 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (6件)
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