特許
J-GLOBAL ID：200903035842348688
導管の内側に蓄積された薄層の厚みを決定する方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青木 朗 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-234543
公開番号（公開出願番号）：特開平5-209725
出願日： 1992年09月02日
公開日（公表日）： 1993年08月20日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】本発明は、薄層の前触れとなる物質を含むようなほぼ透明な流体の流れを導くパイプその他の導管の内側の不利な又は有害な薄層蓄積物の厚みを測定するための装置及び方法に関する。【構成】プロセス流体のサンプル流を本流から分路させるための透明な分流導管12と、感知できる全ての薄層14が除去される分路の基準区分にある基準発光体16,20及び光検出器18,22と、上流のサンプル発光体およびそれに相対向する検出器と、それぞれの発光体が同じ強度の光ビームを発するようにする共通の光源34と、それぞれの検出器18,22が受容した2種の光のアナログ値を同時に算出してサンプルに関する薄層14の厚みを決定する手段とを用いることにより、流れる流体の本流を導く本流導管10の内径において蓄積された薄層の厚みを最終的に決定する。
請求項（抜粋）：
流れる流体の本流を導く本流導管の内径において蓄積された薄層の厚みを決定する方法において、プロセス流体のサンプル流を本流から分路させるため透明な分流導管を使用する段階、分流管の基準区分に基準の発光体及びそれに相対向する光検出器を位置設定し、清浄な基準区分を確立すべく該基準区分において感知できる全ての薄層を除去する段階、該基準区分の上流にサンプルの発光体及びそれに相対向する検出器を位置設定する段階、前記の2種の発光体がそれぞれサンプル光ビームと基準光ビームとを同じ強度で発するように、共通の光源に前記各発光体を接続する段階、清浄な区分において基準区分が受容した光の電圧アナログ値VR と、サンプルの検出器が受容した光の電圧アナログ値VS とを同時に測定する段階、吸光度(Abs)が予め定められた値に達するまでサンプル区分における薄層の吸光度(Abs)の一尺度として logVR - logVS を反復的に決定する段階、及び、前記予め定められた値に達した時点で、薄層形成を妨げることを目的として増大された速度で本流に対し薄層形成防止剤を供給する段階を含む方法。
IPC (3件)：
G01B 11/06
, G01F 23/28
, G01N 21/59
