特許
J-GLOBAL ID：200903035846628065
アパーチャーマスク並びに光加工方法及びその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
黒田 壽
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-164256
公開番号（公開出願番号）：特開平11-342486
出願日： 1998年05月27日
公開日（公表日）： 1999年12月14日
要約：
【要約】【課題】 印刷マスク材上の加工パターン形成における低コスト化及び納期の短縮を図ることができるアパーチャーマスク並びに光加工方法及びその装置を提供する。【解決手段】 エキシマレーザ10からのレーザビームの照射スポットに対応する区画40aを複数有し、該複数の区画のそれぞれに、印刷マスク材60の加工パターンの形成に使用する可能性がある複数の要素形状パターンの一つに対応する光通過パターンを形成したアパーチャーマスク40を用いる。このアパーチャーマスク40の複数の区画から加工パターン情報に基づいて一つの区画を選択し、該選択した区画にレーザビームを照射し、該選択した区画の光通過パターンを通過したレーザビームを印刷マスク材60上に結像することにより、印刷マスク60に該光通過パターンに対応する要素形状パターンを形成する。この要素形状パターンの形成を、テーブル63に載置された印刷マスク材60を移動させながら繰り返す。
請求項（抜粋）：
光源から出射される光を部分的に遮光し加工対象物に照射することにより、該加工対象物に複数の要素形状パターンを組み合わせた加工パターンを形成するために用いるアパーチャーマスクであって、該光源からの光の照射スポットに対応する区画を複数有し、該複数の区画のそれぞれに、加工対象物の加工パターンの形成に使用する可能性がある複数の要素形状パターンの一つに対応する光通過パターンを形成したことを特徴とするアパーチャーマスク。
IPC (4件)：
B23K 26/06
, B23K 26/00
, G03F 1/16
, B41N 1/24 102
B23K 26/06 J
, B23K 26/00 G
, G03F 1/16 Z
, B41N 1/24 102
