特許

J-GLOBAL ID：200903035847930237

揮発性有機物質を含む排ガスの処理装置および処理方法

発明者： 矢野 大作 ,  今濱 敏信
出願人/特許権者： オルガノ株式会社
代理人 (1件)： 千田 稔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-340097
公開番号（公開出願番号）：特開2001-149755
出願日： 1999年11月30日
公開日（公表日）： 2001年06月05日
要約：

【要約】【課題】 二次的汚染を防止しつつ揮発性有機物質を経済的かつ効率よく処理することができる排ガスの処理方法を提供する。【解決手段】 揮発性有機物質を含む排ガスを常圧低温マイクロ波プラズマ装置10に導入し、分解処理後の排ガスをスクラバー40で吸収処理することにより揮発性有機物質を含む排ガスを処理する。

請求項（抜粋）：

排ガス中の揮発性有機物質を分解処理する常圧低温プラズマ装置と、前記装置によって生じる気体を水またはアルカリ液と接触させる手段を有することを特徴とする揮発性有機物質を含む排ガスの処理装置。

IPC (7件)：

B01D 53/70 ,  B01D 53/32 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/44 ,  B01D 53/77 ,  B01D 53/72 ,  B01D 53/56

FI (6件)：

B01D 53/32 ,  B01D 53/34 134 E ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 117 C ,  B01D 53/34 120 D ,  B01D 53/34 130 Z

Fターム (28件)：

4D002AA12 ,  4D002AA17 ,  4D002AA21 ,  4D002AA32 ,  4D002AA33 ,  4D002AB02 ,  4D002AB03 ,  4D002AC10 ,  4D002BA02 ,  4D002BA07 ,  4D002CA01 ,  4D002CA07 ,  4D002CA20 ,  4D002DA02 ,  4D002DA08 ,  4D002DA11 ,  4D002DA12 ,  4D002DA16 ,  4D002DA21 ,  4D002DA35 ,  4D002DA45 ,  4D002DA46 ,  4D002EA02 ,  4D002GA01 ,  4D002GB09 ,  4D002GB12 ,  4D002GB20 ,  4D002HA03