特許

J-GLOBAL ID：200903035849727501

リソグラフィー用ペリクル

発明者： 白崎 享 ,  濱田 裕一
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 山本 亮一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-147730
公開番号（公開出願番号）：特開2000-338650
出願日： 1999年05月27日
公開日（公表日）： 2000年12月08日
要約：

【要約】【課題】 フッ素エキシマレーザーに対する光透過率が高いリソグラフィー用ペリクルを提供する。【解決手段】 ペリクル膜1の材料として、所定の構造式で示されるペルフルオロジオキソール化合物の重合体又は前記ペルフルオロジオキソール化合物を20モル%以上含有する含フッ素ラジカル重合性モノマー混合物の共重合体を用いる。

請求項（抜粋）：

ペリクル膜の材料として、非晶質フッ素系重合体を用いるリソグラフィー用ペリクルにおいて、非晶質フッ素系重合体が下記の構造式(化1)で示されるペルフルオロジオキソール化合物の重合体又は前記ペルフルオロジオキソール化合物を20モル%以上含有する含フッ素ラジカル重合性モノマー混合物の共重合体であることを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。【化1】(R1 、R2 はフッ素原子あるいは炭素数1〜10よりなるペルフルオロアルキル基から選択され、R3 、R4 はフッ素原子あるいは炭素数1〜10よりなるペルフルオロアルコキシ基から選択され、R3 、R4 のうち少なくとも一つはペルフルオロアルコキシ基である)

IPC (3件)：

G03F 1/14 ,  H01L 21/027 ,  C08F 34/02

FI (3件)：

G03F 1/14 J ,  C08F 34/02 ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (15件)：

2H095BA07 ,  2H095BC33 ,  4J100AC22Q ,  4J100AC24Q ,  4J100AC25Q ,  4J100AC26Q ,  4J100AC27Q ,  4J100AR32P ,  4J100BB07P ,  4J100BB18P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100DA62 ,  4J100JA32 ,  4J100JA43