特許

J-GLOBAL ID：200903035850013148

処理装置および処理方法

発明者： 河南 博 ,  小島 康彦 ,  石坂 忠大
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 木村 満
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-169324
公開番号（公開出願番号）：特開2004-011005
出願日： 2002年06月10日
公開日（公表日）： 2004年01月15日
要約：

【課題】被処理体の被処理面の裏面への処理が防がれた、高い信頼性と高い生産性とを備えた処理装置および処理方法を提供する。【解決手段】副搬送機構26は、ウェハ載置台24上のウェハWをサセプタ載置台25上のサセプタS上に、ウェハWの裏面が覆われるように載置する。主搬送機構27は、サセプタ載置台25上の、ウェハWが載置されたサセプタSをロードロックチャンバ37内に搬入し、ボート42にウェハWおよびサセプタSを保持させる。ウェハWとサセプタSの複数の組を保持したボート42は、昇降機構49によって加熱炉38内まで上昇する。このようにボート42を加熱炉38内にロードした状態で、ウェハWの表面に減圧CVDにより成膜を行う。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

平板状の被処理体の一面に所定の処理を施す処理装置であって、 処理容器と、 前記被処理体をその他面を覆う状態で載置可能でかつ搬送可能な載置部材を、前記被処理体が載置された状態で前記処理容器内に保持する保持部材と、 を備えたことを特徴とする処理装置。

IPC (3件)：

C23C16/44 ,  B65G49/07 ,  H01L21/68

FI (3件)：

C23C16/44 F ,  B65G49/07 H ,  H01L21/68 A

Fターム (34件)：

4K030AA03 ,  4K030AA06 ,  4K030AA13 ,  4K030BA18 ,  4K030BA29 ,  4K030BA38 ,  4K030BB03 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA03 ,  4K030GA02 ,  4K030GA12 ,  4K030KA08 ,  4K030KA11 ,  5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA03 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA02 ,  5F031GA28 ,  5F031GA45 ,  5F031GA48 ,  5F031HA01 ,  5F031HA61 ,  5F031MA13 ,  5F031MA15 ,  5F031MA28 ,  5F031NA04 ,  5F031NA05 ,  5F031NA09 ,  5F031PA26