特許

J-GLOBAL ID：200903035868682713

脱塩水製造装置および脱塩水製造方法

発明者： 埜村 誠 ,  織田 信博 ,  松下 聿宏
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-011662
公開番号（公開出願番号）：特開2002-210467
出願日： 2001年01月19日
公開日（公表日）： 2002年07月30日
要約：

【要約】【課題】 脱塩性能に優れ、しかもシリカ、ホウ素化合物を効率よく除去することができる脱塩水製造装置および脱塩水製造方法を提供する。【解決手段】 被処理物中のイオン性物質の除去処理を行う通液型電気二重層コンデンサ2の上流側に、被処理水に酸を添加する酸添加手段3と、酸を添加した被処理水から炭酸を除去する脱炭酸手段4が設けられている。

請求項（抜粋）：

被処理水中のイオン性物質の除去処理を行う通液型電気二重層コンデンサ(2)の上流側に、被処理水に酸を添加する酸添加手段(3)と、酸を添加した被処理水から炭酸を除去する脱炭酸手段(4)を設けたことを特徴とする脱塩水製造装置。

IPC (4件)：

C02F 1/46 ,  C02F 1/20 ,  C01B 5/00 ,  H01M 8/04

FI (4件)：

C02F 1/46 Z ,  C02F 1/20 Z ,  C01B 5/00 Z ,  H01M 8/04 N

Fターム (18件)：

4D037AA02 ,  4D037BA23 ,  4D037CA04 ,  4D037CA14 ,  4D061DA03 ,  4D061DB13 ,  4D061EA02 ,  4D061EB01 ,  4D061EB12 ,  4D061EB16 ,  4D061EB19 ,  4D061EB23 ,  4D061EB27 ,  4D061EB29 ,  4D061EB31 ,  4D061FA03 ,  4D061FA11 ,  5H027DD00