特許

J-GLOBAL ID：200903035869670425

化学的に補強されたレジスト

発明者： シュテファン ヒーン
出願人/特許権者： シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト
代理人 (1件)： 山口 巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-126289
公開番号（公開出願番号）：特開平11-338155
出願日： 1999年05月06日
公開日（公表日）： 1999年12月10日
要約：

【要約】【課題】 高感受性でかつコントラストを増強し潜像を安定化する新規の化学的に補強されたレジストを提供する。【解決手段】 少なくとも2つのポリマー成分から成る酸に不安定な基を有するポリマー、露光時又は電子ビーム照射時にpKa値≦0を有するスルホン酸を遊離させる第1の光活性オニウム化合物(A)、露光時又は電子ビーム照射時にpKa値≦3(このpKa値はオニウム化合物(A)のpKa値よりも少なくとも1だけ大きい)を有するスルホン酸を遊離させる第1の光活性オニウム化合物(B)、及び溶媒を含んでいる化学的に補強されたレジストを生成する。

請求項（抜粋）：

少なくとも2つのポリマー成分から成る酸に不安定な基を有するポリマー、露光時又は電子ビーム照射時にpKa値≦0を有するスルホン酸を遊離させる第1の光活性オニウム化合物(A)、露光時又は電子ビーム照射時にpKa値≦3(このpKa値はオニウム化合物(A)のpKa値よりも少なくとも1だけ大きい)を有するスルホン酸を遊離させる第2の光活性オニウム化合物(B)、及び溶媒を含んでいることを特徴とする化学的に補強されたレジスト。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R