特許
J-GLOBAL ID：200903035872568283
ドライエッチング装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西田 新
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-287412
公開番号（公開出願番号）：特開平9-129609
出願日： 1995年11月06日
公開日（公表日）： 1997年05月16日
要約：
【要約】【課題】 大型の基板等を一度に多量に処理しうるドライエッチング装置を提供する。【解決手段】 円筒形の真空チャンバ4内に円形の回転テーブル5を備え、この回転テーブル5上に、その回転中心を中心とする同心円状に複数の基板ホルダ9、9’を設ける。また、これらの基板ホルダ9、9’の回転軌跡に沿ってその内側および外側に位置するように、真空チャンバ4に複数のプラズマ発生電極20とガス供給管30とを垂下状態に設け、このうちのプラズマ発生電極20を、それぞれ、円形または多角形のリング状の永久磁石を相互に吸引状態となるように磁石の磁化方向に絶縁体を介して一定の間隔を隔てて複数個配設してなる構成とする。そして、基板ホルダ9、9’に直流電流もしくは高周波電流あるいはその両者を重畳して供給することで負の電界を印加した状態で、ガス供給管30を通じて予め一部をプラズマ化した処理ガスをプラズマ発生電極30の近傍に供給するとともに、同電極30に対して高周波電力を供給してプラズマを発生させる構成とする。
請求項（抜粋）：
真空源に接続される円筒形の真空チャンバを有し、この真空チャンバ内で発生させたガスプラズマによりエッチングを行うドライエッチング装置であって、上記真空チャンバ内に設けられて回転駆動手段により回転される回転テーブルと、この回転テーブルの周縁部に沿って複数個配置され且つ個々の表面側および裏面側にそれぞれエッチングされる基板を保持する基板ホルダと、これらの基板ホルダの表裏面に保持された各基板に対向するようにそれらの基板の回転軌跡に沿ってその内側および外側に配置された複数のプラズマ発生電極と、これらのプラズマ発生電極と同様に上記基板の回転軌跡に沿ってその内側および外側に複数個配置され且つプラズマ発生電極によりプラズマ化されるガスを供給するガス供給手段と、これらのガス供給手段により真空チャンバ内に供給されるガスを予めプラズマ化させるべく同ガス供給手段にマイクロ波を導入するマイクロ波導入手段と、上記プラズマ発生電極によりガスプラズマを発生させるために同プラズマ発生電極に対して高周波電力を供給する高周波電力供給手段と、上記基板ホルダに直流電力もしくは高周波電力あるいはその両者を重畳して供給することで負の電界を印加する基板ホルダ印加手段とを具備するとともに、上記プラズマ発生電極のそれぞれが、円形または多角形のリング状の永久磁石を相互に反発状態となるように同磁石の磁化方向に磁性体を介して一定の間隔を隔てて複数個配設してなる構成とされていることを特徴とするドライエッチング装置。
IPC (3件)：
H01L 21/3065
, C23F 4/00
, H05H 1/46
H01L 21/302 B
, C23F 4/00 D
, H05H 1/46 A
