特許

J-GLOBAL ID：200903035885617135

銅の表面処理液および表面処理方法

発明者： 印部 俊雄
出願人/特許権者： 日本ペイント株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人原謙三国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-048065
公開番号（公開出願番号）：特開2009-235565
出願日： 2009年03月02日
公開日（公表日）： 2009年10月15日
要約：

【課題】安定した表面処理を行うべく、濁りが少なく安定な銅の表面処理液および表面処理液を接触させる銅の表面処理方法を提供する。【解決手段】スズ化合物と、フッ素化合物と、錯化剤とを含有し、表面処理液全体に対する遊離フッ素の濃度が0.1ppm以上、100ppm以下の範囲内であり、表面処理液のpHが5以下である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

スズ化合物と、フッ素化合物と、錯化剤とを含有し、 表面処理液全体に対する遊離フッ素の濃度が0.1ppm以上、100ppm以下の範囲内であり、 上記表面処理液のpHが5以下であることを特徴とする銅の表面処理液。

IPC (3件)：

C23C 18/31 ,  H05K 3/38 ,  B32B 15/08

FI (3件)：

C23C18/31 Z ,  H05K3/38 B ,  B32B15/08 K

Fターム (29件)：

4F100AA02A ,  4F100AB17B ,  4F100AB18A ,  4F100AH03A ,  4F100AH03H ,  4F100AH05A ,  4F100AH05H ,  4F100AH06A ,  4F100AH06H ,  4F100BA02 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100CA14A ,  4F100CA30A ,  4F100EJ67A ,  4F100EJ67H ,  4F100GB43 ,  4F100JK20 ,  4K022AA02 ,  4K022AA42 ,  4K022BA21 ,  4K022DA01 ,  5E343AA17 ,  5E343AA18 ,  5E343BB24 ,  5E343EE02 ,  5E343EE53 ,  5E343EE56 ,  5E343GG02