特許

J-GLOBAL ID：200903035905696312

ヒドロキシアルキルモノアクリレートの製造方法

発明者： 横山 寿治 ,  河原木 裕二 ,  村井 浩也
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 岡田 数彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-152175
公開番号（公開出願番号）：特開平11-043466
出願日： 1998年05月14日
公開日（公表日）： 1999年02月16日
要約：

【要約】【課題】反応活性および目的物選択性、触媒安定性、更には基質および生成物の安定性に優れ、しかも、反応触媒を効率良く回収して再使用し得る様に改良されたヒドロキシアルキルモノアクリレートの工業的に有利な製造方法を提供する。【解決手段】アクリル酸またはアクリル酸誘導体とアルカンジオールとのエステル化及び/又はエステル交換反応によるヒドロキシアルキルモノアクリレートの製造方法において、スタノキサン化合物を反応触媒として使用し、そして、反応後、反応生成液から抽出操作により触媒を回収して反応系に循環する。

請求項（抜粋）：

アクリル酸または一般式(I)或いは(II)で表されるアクリル酸誘導体と一般式(III)で表されるアルカンジオールとのエステル化及び/又はエステル交換反応によるヒドロキシアルキルモノアクリレートの製造方法において、一般式(IV)で表されるスタノキサン化合物を反応触媒として使用し、そして、反応後、反応生成液から抽出操作により触媒を回収して反応系に循環することを特徴とするヒドロキシアルキルモノアクリレートの製造方法。【化1】(一般式(I)中のRはアルキル基、一般式(II)及び(III)中のnは1〜10の整数を表わし、一般式(IV)中、R1、R2、R3及びR4は、アルキル基または置換基を有していてもよいフェニル基を表わし、これらは互いに異なっていてもよく、X及びYは、互いに異なっていてもよい、-OH、-O(CH2)nOH、-O(CH2)nOCOCH=CH2、-OR、-OCOR、-OCOCH=CH2(nは1〜10の整数を表わし、Rはアルキルを表わす)及びハロゲン原子から成る郡から選ばれる基を表す。)

IPC (5件)：

C07C 69/54 ,  B01J 31/12 ,  B01J 38/00 301 ,  C07C 67/03 ,  C07B 61/00 300

FI (5件)：

C07C 69/54 Z ,  B01J 31/12 Z ,  B01J 38/00 301 P ,  C07C 67/03 ,  C07B 61/00 300