特許
J-GLOBAL ID:200903035951524550

磁性多層膜の製造方法、磁気記録媒体の製造方法、磁性多層膜、及び、磁気記録媒体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-070632
公開番号(公開出願番号):特開2003-272944
出願日: 2002年03月14日
公開日(公表日): 2003年09月26日
要約:
【要約】【課題】 損傷を抑制できる磁性多層膜の製造方法、磁気記録媒体の製造方法、磁性多層膜、及び、磁気記録媒体を提供する。【解決手段】 基板の温度を120〜240°Cとし、この基板にFe単原子層とPt単原子層とを交互に積層する。このような製造方法により得られる磁性多層膜は、L10規則構造を有して磁気異方性エネルギー定数が大きく、さらに、(001)面が基板面に対して平行とされており、垂直磁気異方性が高く、基板面に垂直な方向の保磁力及び基板面に垂直な方向の磁化曲線の角形比が大きく、磁気記録媒体等の磁気記録膜として有用である。また、基板温度を120〜240°Cとして磁性多層膜を形成するので、基板温度が500°C程度にされる従来の製造方法に比して基板等への温度負荷が低減される。
請求項(抜粋):
基板の温度を120〜240°Cとし、前記基板にFe単原子層とPt単原子層とを交互に積層する単原子層積層工程を含むことを特徴とする、磁性多層膜の製造方法。
IPC (5件):
H01F 41/20 ,  G11B 5/65 ,  G11B 5/738 ,  G11B 5/85 ,  H01F 10/14
FI (5件):
H01F 41/20 ,  G11B 5/65 ,  G11B 5/738 ,  G11B 5/85 ,  H01F 10/14
Fターム (16件):
5D006BB01 ,  5D006BB08 ,  5D006CA02 ,  5D006CA05 ,  5D006CA06 ,  5D006EA03 ,  5D112AA03 ,  5D112AA05 ,  5D112BB02 ,  5D112BB07 ,  5D112BD03 ,  5D112FA01 ,  5D112GB01 ,  5E049AA04 ,  5E049BA08 ,  5E049EB03
引用特許:
審査官引用 (2件)

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