特許
J-GLOBAL ID：200903035961002579
光源装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-077923
公開番号（公開出願番号）：特開平6-289316
出願日： 1993年04月05日
公開日（公表日）： 1994年10月18日
要約：
【要約】【目的】 ほぼ200nm以下の波長スペクトルを有する光を射出する光源を用いた場合であっても、この光源から射出光を用いた光学装置に脱酸素処理をしなくて良い光源装置を得る。【構成】 アルゴンAr、フッ素F2 、バッファーガスとしてのヘリウムHeを充填したレーザチャンバー1、反射ミラー2、共振ミラー3によってArFエキシマレーザを構成する。レーザチャンバー1と共振ミラー3との間には、使用波長に対して透明な例えば直方体形状セルに酸素を充填した酸素セル4を配置する。それによって、共振ミラー3を透過した光から酸素の吸収波長成分を取り除く。
請求項（抜粋）：
ほぼ200nm以下の波長スペクトルを有する光を射出する光源の内部もしくは前記光源の出射口の直後に、酸素ガスを封入したセルを設置することにより、酸素の吸収スペクトルに一致する波長を除去した波長スペクトルの光を得ることを特徴とする光源装置。
IPC (5件)：
G02B 27/00
, G03B 27/32
, G03B 27/54
, H01L 21/027
, H01S 3/00
