特許

J-GLOBAL ID：200903035975933079

化学増幅型ポジ型レジスト組成物

発明者： 市村 國宏 ,  奥平 次男 ,  末次 益実 ,  上谷 保則 ,  難波 克彦
出願人/特許権者： 市村 國宏 ,  有限会社日本ケミックス ,  住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-092325
公開番号（公開出願番号）：特開2002-287362
出願日： 2001年03月28日
公開日（公表日）： 2002年10月03日
要約：

【要約】【課題】パターン側壁の形状不良が改善され、平滑性に優れたレジストパターンを与え、また感度や解像性にも優れた、KrFなどのエキシマレーザーリソグラフィに適した化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】p-ヒドロキシスチレンから導かれる重合単位及び酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、上記酸に不安定な基が酸の作用により解裂した後はアルカリに可溶となる樹脂、感放射線性酸発生剤、並びに式(1)で示される化合物を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。(式中、R1、R2は、それぞれ独立に、炭素数が1〜15のアルキル、少なくとも3つの水素原子がフッ素原子で置換された炭素数が1〜8のアルキル、または炭素数が6〜10のアリールを示す。)

請求項（抜粋）：

p-ヒドロキシスチレンから導かれる重合単位及び酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、上記酸に不安定な基が酸の作用により解裂した後はアルカリに可溶となる樹脂、感放射線性酸発生剤、並びに式(1)で示される化合物を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。(式中、R1、R2は、それぞれ独立に、炭素数が1〜15のアルキル、少なくとも3つの水素原子がフッ素原子で置換された炭素数が1〜8のアルキル、または炭素数が6〜10のアリールを示す。)

IPC (5件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08F220/12 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08F220/12 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (29件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA10 ,  2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AL03R ,  4J100AL04R ,  4J100AL08R ,  4J100BA03P ,  4J100BA10Q ,  4J100BC09R ,  4J100CA04 ,  4J100JA38