特許

J-GLOBAL ID：200903035984076979

洗浄方法および洗浄装置

発明者： 高橋 宏明
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-271510
公開番号（公開出願番号）：特開2000-098320
出願日： 1998年09月25日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：

【要約】【課題】被洗浄物を効率良く洗浄でき、製造効率の向上、製造コストの低減を図ることが可能な被洗浄物の洗浄方法、および洗浄装置を提供することにある。【解決手段】 オゾンガスを含んでいるとともに酸素ガスを10ppm以上の濃度で溶解させた洗浄水に超音波を付加し、この洗浄水により被洗浄物に付着した汚染物質を除去する。

請求項（抜粋）：

オゾンガスを含んでいるとともに酸素ガスを10ppm以上の濃度で溶解させた洗浄水により、被洗浄物に付着した汚染物質を除去することを特徴とする洗浄方法。

IPC (4件)：

G02F 1/13 101 ,  B08B 3/10 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/304 647

FI (4件)：

G02F 1/13 101 ,  B08B 3/10 Z ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/304 647 Z

Fターム (11件)：

2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H090HC18 ,  2H090JC19 ,  3B201AA03 ,  3B201BB33 ,  3B201BB83 ,  3B201BB93 ,  3B201BB98 ,  3B201CB12